掩模對準(zhǔn)曝光機(jī)是指通過開啟燈光發(fā)出UVA波長的紫外線，將膠片或其他透明體上的圖像信息轉(zhuǎn)移到涂有感光物質(zhì)的表面上的機(jī)器設(shè)備。該儀器可廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、生物器件和納米科技領(lǐng)。
技術(shù)數(shù)據(jù)：
掩模對準(zhǔn)曝光機(jī)以其多功能性和可靠性而著稱，在小的占位面積上結(jié)合了先進(jìn)的對準(zhǔn)功能和優(yōu)化的總體擁有成本，提供了先進(jìn)的掩模對準(zhǔn)技術(shù)。它是光學(xué)雙面光刻的理想工具，可提供半自動或自動配置以及可選的全覆蓋Gen 2解決方案，以滿足大批量生產(chǎn)要求和制造標(biāo)準(zhǔn)。擁有操作員友好型軟件，短的掩模和工具更換時間以及高效的球服務(wù)和支持，使它成為任何制造環(huán)境的理想解決方案。
該儀器或*容納的EVG620 NT Gen2掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)配備了集成的振動隔離功能，可在各種應(yīng)用中實現(xiàn)出色的曝光效果，例如，對薄而厚的光刻膠進(jìn)行曝光，對深腔進(jìn)行構(gòu)圖并形成可比的形貌，以及對薄而易碎的材料（例如化合物半導(dǎo)體）進(jìn)行加工。此外，半自動和全自動系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術(shù)。
產(chǎn)品特點：
1、高清彩色雙顯示屏；
2、設(shè)備穩(wěn)定性，耐用性超高；
3、操控手柄調(diào)控模式的*設(shè)計；
4、抗衍射反射的高效光學(xué)光路設(shè)計；
5、可選支持單面對準(zhǔn)和雙面對準(zhǔn)設(shè)計；
6、帶安全保護(hù)功能的溫度和氣流傳感器；
7、采用LED穿透物鏡照明技術(shù)，具有*對準(zhǔn)亮度；
8、采用基于無限遠(yuǎn)修正的顯微鏡鏡頭架構(gòu)；
9、具有自動執(zhí)行楔形誤差補償，并在找平后自動定位功能；
10、操作簡易，具有支持多操作員同臺使用的友好操作界面；
11、全新氣動軸承導(dǎo)軌設(shè)計，高jīng準(zhǔn)，低磨損，無需售后維護(hù)的；
12、高清晰彩色雙CCD鏡頭采用的分裂視場顯微鏡鏡頭；雙頭高清全彩物鏡。
