膜厚儀又叫膜厚測(cè)試儀，可應(yīng)用于在線膜厚測(cè)量，測(cè)氧化物，SiNx，感光保護(hù)膜和半導(dǎo)體膜。也可以用來(lái)測(cè)量鍍?cè)阡摚X，銅，陶瓷和塑料等上的粗糙膜層。薄膜表面或界面的反射光會(huì)與從基底的反射光相干涉，干涉的發(fā)生與膜厚及折光系數(shù)等有關(guān)，因此可通過計(jì)算得到薄膜的厚度。光干涉法是一種無(wú)損，精確且快速的光學(xué)薄膜厚度測(cè)量技術(shù)，薄膜測(cè)量系統(tǒng)采用光干涉原理測(cè)量薄膜厚度。
膜厚儀符合了(GB/T 4957-2003)中的渦流法以及(GB/T 4956-2003)中的磁性法等相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)。一般根據(jù)原理不同可分為3種類型，具體分析如下：
1、渦流測(cè)厚的原理，是利用高頻交變電流在線圈中產(chǎn)生的電磁場(chǎng)，當(dāng)測(cè)頭和覆蓋層接觸時(shí)，金屬基體上就會(huì)產(chǎn)生電渦流。并且會(huì)對(duì)測(cè)頭中的線圈產(chǎn)生了反饋的作用，然后通過測(cè)量反饋?zhàn)饔玫拇笮?lái)導(dǎo)出覆蓋層的厚度。適用于非磁性金屬基體上(銅、鋁、黃銅等)非導(dǎo)電涂層的測(cè)量(如涂料、陽(yáng)極氧化層等)。如航天航空器表面、車輛等及其它鋁制品表面的油漆，陽(yáng)極氧化膜等。
2、磁性測(cè)厚的原理，是當(dāng)測(cè)頭和覆蓋層接觸時(shí)，測(cè)頭和磁性金屬基體構(gòu)成的一閉合磁路，由于非磁性覆蓋層的存在，會(huì)使磁路磁阻發(fā)生變化，根據(jù)變化就可以測(cè)出涂層的厚度。
3、熒光X射線型是通過X射線所散發(fā)出來(lái)的粒子，吸收能量之后變成穩(wěn)定狀態(tài)來(lái)測(cè)量厚度的，這種是科技發(fā)展的最新產(chǎn)物，通常被多種行業(yè)領(lǐng)域所使用。
不管是選擇膜厚儀還是選擇合適的儀器，這些都需要在選擇和使用之前掌握相關(guān)的知識(shí)，比如在選購(gòu)的時(shí)候，要注意了解行情，注意行業(yè)發(fā)展情況，選擇儀器的時(shí)候需要明白設(shè)備的哪些參數(shù)，在使用的時(shí)候需要掌握相應(yīng)的使用方法和維護(hù)方法等。
