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      詳細解析接近式光刻機的結構及作用

      更新時間:2022-05-16  |  點擊率:3059
        接近式光刻機在單室設計上可以滿足研發工作,與EVG的自動化系統*兼容。EVG101支持大300 mm的晶圓,可配置為旋涂或噴涂和顯影。使用EVG先進的OmniSpray涂層技術,在3D結構晶圓上實現光刻膠或聚合物的共形層,用于互連技術。這確保了高粘度光致光刻膠或聚合物的低材料消耗,同時改善了均勻性并防止了擴散。
       

       

        它的分類:
        接近式光刻機一般根據操作的簡便性分為三種,手動、半自動、全自動
        1、手動:指的是對準的調節方式,是通過手調旋鈕改變它的X軸,Y軸和thita角度來完成對準,對準精度可想而知不高了;
        2、半自動:指的是對準可以通過電動軸根據CCD的進行定位調諧;
        3、自動: 指的是從基板的上載下載,曝光時長和循環都是通過程序控制,自動光刻機主要是滿足工廠對于處理量的需要。
       
        接近式光刻機的結構及作用:
        1、測量臺、曝光臺:承載硅片的工作臺,也就是本次所說的雙工作臺。
        2、光束矯正器:矯正光束入射方向,讓激光束盡量平行。
        3、能量控制器:控制最終照射到硅片上的能量,曝光不足或過足都會嚴重影響成像質量。
        4、光束形狀設置:設置光束為圓型、環型等不同形狀,不同的光束狀態有不同的光學特性。
        5、遮光器:在不需要曝光的時候,阻止光束照射到硅片。
        6、能量探測器:檢測光束最終入射能量是否符合曝光要求,并反饋給能量控制器進行調整。
        7、掩模版:一塊在內部刻著線路設計圖的玻璃板,貴的要數十萬美元。
        8、掩膜臺:承載掩模版運動的設備,運動控制精度是nm級的。
        9、物鏡:物鏡由20多塊鏡片組成,主要作用是把掩膜版上的電路圖按比例縮小,再被激光映射的硅片上,并且物鏡還要補償各種光學誤差。技術難度就在于物鏡的設計難度大,精度的要求高。
        10、硅片:用硅晶制成的圓片。硅片有多種尺寸,尺寸越大,產率越高。題外話,由于硅片是圓的,所以需要在硅片上剪一個缺口來確認硅片的坐標系,根據缺口的形狀不同分為兩種,分別叫flat、notch。
        11、內部封閉框架、減振器:將工作臺與外部環境隔離,保持水平,減少外界振動干擾,并維持穩定的溫度、壓力。
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