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該設備支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并可選擇背面對準。此外，該系統還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準和納米壓印光刻（NIL）。
EVG610提供快速的處理和重新安裝工具，以改變用戶需求，光刻和NIL之間的轉換時間僅為幾分鐘。其先進的多用戶概念可以適應從初學者到專家級別的所有需求，因此使其成為大學和研發應用程序的理想選擇。
| 晶圓直徑 | （基板尺寸） |
| 標準光刻 | 碎片蕞大150毫米 |
| 柔軟的UV-NIL | 蕞大150毫米的碎片 |
| 解析度 | ≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝） |
| 支持流程 | 柔軟的UV-NIL |
| 曝光源 | 汞光源或紫外線LED光源 |
| 自動分離功能 | 不支持 |
| 工作印章制作 | 外部 |
圖1 微鏡頭
圖2 納米壓印結果（100納米分辨率）
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