-自動化高速薄膜厚度測量儀

簡要描述：顯示器薄膜測量儀*的光學模塊可容納所有光學部件：分光計、復合光源(壽命10000小時)、高精度反射探頭。因此，在準確性、重現(xiàn)性和長期穩(wěn)定性方面保證了優(yōu)異的性能。

產(chǎn)品型號：FR-Scanner AIO-Mic-RΘ150
廠商性質：代理商
產(chǎn)品資料：
更新時間：2025-09-04
訪問量： 1322

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詳細介紹

1、FR-Scanner-AIO-Mic-RΘ150介紹

模塊化厚度測繪系統(tǒng)平臺，集成了光學、電子和機械模塊，用于表征圖案化薄膜光學參數(shù)。典型案例包括（但不限于）微圖案表面、粗糙表面等。晶圓放置在真空吸盤上，該真空吸盤支持尺寸/直徑達 300 毫米的各種晶圓，執(zhí)行測量光斑尺寸小至幾微米的強大光學模塊。具超高精度和可重復性的電動RΘ 載物臺，在速度、精度和可重復性方面具有出色的性能。

FR-Scanner-AIO-Mic-RΘ150提供：o 實時光譜反射率測量 o 薄膜厚度、光學特性、不均勻性測量、厚度測繪o 使用集成的、USB 連接的高質量彩色相機進行成像o 測量參數(shù)的統(tǒng)計數(shù)據(jù) * 還提供用于測量更大直徑晶圓上涂層的工具（最大 450 毫米）

2、特征

o 單擊分析（無需初始猜測）

o 動態(tài)測量

o 光學參數(shù)（n & k、色座標）

o Click2Move 和圖案測量位置對齊功能

o 多個離線分析安裝

o 免費軟件更新

3、規(guī)格

Model		UV/VIS	UV/NIR -EX	UV/NIR-HR	D UV/NIR	VIS/NIR	D VIS/NIR	NIR	NIR-N2
Spectral Range (nm)		200 – 850	200 –1020	200-1100	200 – 1700	370 –1020	370 – 1700	900 – 1700	900 - 1050
Spectrometer Pixels		3648	3648	3648	3648 & 512	3648	3648 & 512	512	3648
*Thickness range (SiO₂) 1**	5X- VIS/NIR	4nm – 60μm	4nm – 70μm	4nm – 100μm	4nm – 150μm	15nm – 90μm	15nm–150μm	100nm-150μm	4um – 1mm
	10X-VIS/NIR 10X-UV/NIR*	4nm – 50μm	4nm – 60μm	4nm – 80μm	4nm – 130μm	15nm – 80μm	15nm–130μm	100nm–130μm	–
	15X- UV/NIR *	4nm – 40μm	4nm – 50μm	4nm – 50μm	4nm – 120μm	–	–	100nm-100μm	–
	20X- VIS/NIR 20X- UV/NIR *	4nm – 25μm	4nm – 30μm	4nm – 30μm	4nm – 50μm	15nm – 30μm	15nm – 50μm	100nm – 50μm	–
	40X- UV/NIR *	4nm – 4μm	4nm – 4μm	4nm – 5μm	4nm – 6μm	–	–	–	–
	50X- VIS/NIR	–	–	–	–	15nm – 5μm	15nm – 5μm	100nm – 5μm	–
Min. Thickness for n & k		50nm	50nm	50nm	50nm	100nm	100nm	500nm	–
Thickness Accuracy 2**		0.1% or 1nm				0.2% or 2nm		3nm or 0.3%
Thickness Precision 3/4**		0.02nm				0.02nm		<1nm	5nm
Thickness stability 5**		0.05nm				0.05nm		<1nm	5nm
Light Source		Deuterium & Halogen				Halogen (internal), 3000h (MTBF)
R/Angle resolution		5μm/0.1^o
Material Database		> 700 different materials
Wafer size		2in-3in-4in-6in-8in-300mm
Scanning Speed		100meas/min (8’’ wafer size)
Tool footprint / Weight		650x500mm / 45Kg
Power		110V/230V, 50-60Hz, 350W

測量區(qū)域光斑（收集反射信號的區(qū)域）與物鏡和孔徑大小有關

物鏡	Spot Size (光斑)
放大倍率	500微米孔徑	250微米孔徑	100微米孔徑
5x	100 μm	50 μm	20 μm
10x	50 μm	25 μm	10 μm
20x	25 μm	15 μm	5 μm
50x	10 μm	5 μm	2 μm

4、工作原理

Principle of Operation 測量原理White Light Reflectance Spectroscopy (WLRS) 白光反射光譜是測量從單層薄膜或多層薄膜堆疊結構的一個波長范圍內的反射量，入射光垂直于樣品表面，由于界面干涉產(chǎn)生的反射光譜被用來計算確定（透明或部分透明或wan'quan反射基板上）薄膜的厚度、光學常數(shù)（N&K）等。

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